石英坩堝

石英坩堝，具有高純度、耐溫性強、尺寸大精度高、保溫性好、節(jié)約能源、質(zhì)量穩(wěn)定等優(yōu)點，應用越來越廣泛。目前，國內(nèi)石英坩堝生產(chǎn)企業(yè)生產(chǎn)中使用的生產(chǎn)設(shè)備及工藝技術(shù)全部源于上世紀70年代初錦州155廠從日本引進的生產(chǎn)設(shè)備及工藝技術(shù)，該項技術(shù)設(shè)備自動化程度不高，整個生產(chǎn)過程中更多的依靠人工來實現(xiàn)，現(xiàn)在國內(nèi)新上的坩堝生產(chǎn)設(shè)備都已經(jīng)往自動化發(fā)展。

產(chǎn)品介紹

1、石英坩堝可在1450度以下使用，分透明和不透明兩種。用電弧法制的半透明石英坩堝是拉制大直徑單晶硅，發(fā)展大規(guī)模集成電路必不可少的基礎(chǔ)材料。當今，世界半導體工業(yè)發(fā)達國家已用此坩堝取代了小的透明石英坩堝。他具有高純度、耐溫性強、尺寸大精度高、保溫性好、節(jié)約能源、質(zhì)量穩(wěn)定等優(yōu)點。

2、不能和HF接觸，高溫時，極易和苛性堿及堿金屬的碳酸鹽作用。

3、石英坩堝適于用K2S2O7，KHSO4作熔劑熔融樣品和用Na2S207(先在212度烘干)作熔劑處理樣品。

4、石英質(zhì)脆，易破，使用時要注意。

目前坩堝生產(chǎn)涂層技術(shù)已被大多數(shù)廠家使用就是在坩堝表面涂上一層二氧化鋇溶液使其形成致密層，其致密層能阻止單晶硅高溫拉制過程中硅與石英坩堝反應提高成晶率。